第102章 重开魔窟训练营
的1纳米光刻机，还不能使用透镜，必须使用物镜！
主要是因为极紫外光的波长只有13.5纳米，穿透能力极弱，用透镜调整光路，会造成大量能量损失，甚至有可能根本无法完成照射。
因此，使用极紫外光完成照射芯片掩膜的1纳米光刻机，其物镜光路都是反射式的。
为了保证照射晶圆图案的精度，光刻机中每一块镜片安装位置的误差，都必须小于1nm，够变态了吧？
不！真正变态的在后面呢！
1纳米光刻机，是利用布拉格衍射原理，实现极紫外光的反射的，对反射物镜的要求精度为皮米级别的。
因此，根据孔白技术资料的要求：
1纳米光刻机中的反射镜，由高精度的玻璃基底和沉积在其上的纳米厚度的周期性硅、钼多层膜构成。
在这一系列的反射镜中，直径最大的为1.2米，精度要求面形峰谷值不超过0.12纳米，表面粗糙度不超过20皮米，就是0.02纳米！
什么意思呢？就是达到了原子级别的平坦！
且不论原子间的致密程度，仅从平坦度上来讲，已经跟那个水滴，差不多了！
怎么才能加工到这种平坦度呢？
普通加工工艺肯定是门都没有！
简单的说，按照孔白的技术资料提示：
镜片经由高精度机床铣磨成型后，经过小磨头抛光、磁流变抛光、离子束抛光等超精密抛光手段，才能达到所需的精度，然后再进行镀膜，镀周期性硅、钼多层膜。
孔白害怕他们不明白，就额外的给他们指明了技术实现路径：
利用数控光学表面成形技术来加工镜胚，即：用计算机自动化控制，来代替了人的经验控制。
比方说：小磨头抛光技术是使用一个比镜胚口径小得多的磨头，对镜胚进行抛光，通过控制磨头在镜胚表面不同位置的驻留时间，以及磨头与镜胚之间的压强，来控制磨除量，只有这样，才能够实现数十纳米级别的加工精度。
孔白还提出了，在条件具备的情况下，建议使用更先进的应力盘抛光技术，可以极大地提高镜胚的精度。
即：使抛光盘在计算机控制下，根据镜胚加工的形状实时变形，实现抛光盘与工件的完全贴合。
你看，孔白都把技术资料提供到这种程度了，貌似照着干就是了！
然后，那些看过这些资料的人，没差点当场晕厥过去……
所以说，很多事情，并非像丁部长和李院士想象的那么简单的！说什么拿到光刻机的技术资料，一拍脑门就能造出光刻机的事情，一般的无脑小说可以这样写，但是你要是真这样要求他们的话，就真的很无脑了……