美利坚名利之路

　　不敢去尝试新方案，新方案一旦失败，便会让尼康错过发展良机从而被美国公司超越。

　　最终，ASML公司选择与台积电合作，从而成功的研发出了新型的光刻机。

　　得益于193nm浸没式光刻机系统在市场大获成功，成为全球领先光刻机厂商之后，ASML公司很快又投入了全新的EUV光刻机的研发。

　　在2010年，ASML公司首次发售概念性的EUV光刻系统NXW:3100，从而开启EUV光刻系统的新时代。

　　但是EUV光刻机的研发不仅耗资巨大，即使研发成功，其单价也是高的惊人（单台售价超过1亿美元），仅有少数晶圆制造商能够负担的起，并且他们之前推出的概念机，有太多的不足之处，根本无法用于实际的生产，也导致了目前大部分的厂商，对于EUV光刻机的未来并不看好，这给ASML公司带来了巨大的压力。

　　这也是这一次ASML公司会主动提出来寻求合作厂商投资入股的主要原因。

　　不过陈威廉知道，许多事情都不会像表面上看起来那么简单，就像是ASML公司的崛起，背后就有着美利坚的支持，其实就是美利坚同日本，在芯片领域竞争的结果。

　　即便是没有ASML公司，美利坚也会想办法扶持别的公司来与以尼康、佳能为代表的日系厂商竞争。

　　只不过是尼康等日系厂商在其中犯了极大的错误，因为研究方向的原因，被ASML公司所超越。

　　在上个世纪八十年代之前，美系和日系厂商在芯片行业还有来有往，甚至最早美利坚公司还占据上风。

　　但到了80年代，日本在光刻机领域形成了垄断地位，仅尼康一家企业便独占50%的市场，佳能则次之。

　　那个时候，美利坚本土光刻机公司在日本企业的打击之下，已经没有发展的希望。

　　因此，美利坚希望能够扶持他国光刻机企业，而尼康等日本公司显然不是一个好的选择，美国可不想养虎为患。

　　于是后来，美利坚集结的全球顶尖的科技力量，成立EUVLLC联盟来攻克极紫外光（EUV）光刻机技术。

　　而ASML公司则抓住了这次机会，做出了诸多许诺与让步，成功加入EUVLCC联盟，接触到了E